通常选择磷(Phosphorus)作为深光电二极管阱的 n 型掺杂剂,因为与相同注入能量下的砷(Arsenic)相比,磷的原子质量更轻,能够实现更深的穿透深度 [P3]。
N Photocathode IIPX 步骤通过物理方式引入 n 型掺杂剂,从而形成钉扎光电二极管(pinned photodiode)的主要电荷收集区 [A1]。与仅利用光刻技术来定义光刻胶中注入窗口空间边界的前置“Photocathode IIPX - Photo”步骤不同,此步骤执行的是将掺杂离子高能弹道式注入暴露硅片中的实际操作 [T1]。
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