具有氧化性或还原性剂的溶剂去除DTI结构中的溴钝化层而不损伤硅 。
此灰化与剥离/清洗步骤位于极具侵蚀性的硅全槽刻蚀（各向异性）[F_DTI] 之后，以及深槽真空干燥和 SiN 填充步骤之前，其位置至关重要 。前序深反应离子刻蚀（DRIE）工艺依赖氟和溴化学物质，以实现深沟槽隔离（DTI）所需的极端高宽比 。因此，沟槽侧壁和底部残留有大量保护性的、高度交联的碳氟化合物和溴化钝化聚合物，以及光刻胶和氧化物硬掩模的结垢残余物 [P1, P3]。此灰化与剥离/清洗步骤必须彻底清除这些复杂的有机物和有机卤素残余物，以露出原始的硅和氧化物表面 。如果清洗不彻底，这些疏水性聚合物网络将严重降低后续 SiN 填充步骤的附着力和结构完整性，导致界面陷阱态，进而大幅增加 BSI CMOS 图像传感器中的暗电流和白点缺陷 。此特定步骤与常规平面灰化操作的区别在于，DTI 结构的极端深度和窄宽度导致了严重的质量传输限制，这需要高度专业化的残余物萃取机制 。
此清洗步骤的物理和化学机制依赖于结构聚合物改性与后续定向湿法溶解的协同序列 。由于碳氟聚合物中富含 C–F 的致密网络能够强烈抵抗标准有机溶剂，传统的氧等离子体往往不足以清除残余物，或者会造成过度损伤 。为了克服这一问题，先进的混合方法引入了紫外线（UV）辐射或等离子体液-气激活来从结构上削弱残余物 [P1, P4]。在适当的激发下，高能光子或等离子体产生的自由基会诱导聚合物主链内的 C–C 和 C–F 键发生光化学断裂 。这种链断裂降低了结垢层的分子量和交联密度，同时引入了极性官能团，从而降低表面能并改善溶剂润湿性 。一旦高度交联的光刻胶和钝化聚合物的结构完整性受到破坏，特殊配制的湿法剥离溶剂就能有效地渗透、溶胀并溶解改性后的残余物 。在此溶解阶段，可以将兆声波等机械能耦合到流体中，以物理方式辅助剥离，并克服深沟槽几何形状中存在的严重毛细管力 。
特定剥离化学物质和改性参数的选择需要在残余物去除效率与保护暴露的衬底及硬掩模之间取得严格的平衡 。溶剂经过专门设计，含有能够与卤化刻蚀副产物（如 DTI 刻蚀过程中产生的溴钝化层）发生络合的特定氧化或还原剂，且不会对下方的硅晶体造成严重的点蚀 。此外，UV 剂量或等离子体激活电压等工艺参数必须在狭窄的工艺窗口内进行严密优化 [P1, P4]。激活能量不足会导致聚合物链断裂不完全，使溶剂无法溶解致密的碳氟化合物网络 。相反，过高的能量剂量会导致残余物发生不必要的二次交联，或对周围的介电薄膜造成结构性损伤，从而永久性地改变其机械和电气性能 [P1, P4]。后续的深槽真空干燥步骤也要求此清洗过程必须以完全均匀、亲水的表面状态结束，且不得有任何微水渍或沉淀污染物，以确保后续 SiN 沉积的完美共形性 。
[高] 深槽中残留物去除不完全：由于 DTI 结构具有极高的深宽比，湿法剥离化学品的质量传递和流体交换在深槽底部受到严重的扩散限制 。如果前序的碳氟化合物和溴化钝化聚合物未通过 UV 或等离子体预处理进行充分改性，高度交联的网络将阻碍溶剂的渗透 [P1, P3]。这将导致残留聚合物堵塞后续的 SiN 填充，引起结构空洞，并影响像素的电气和光学隔离 。
[中] UV/等离子体诱导的衬底损伤：利用高剂量 UV 照射或等离子体活化来加速聚合物残留物中 C–C 和 C–F 键的断裂 。然而，过度使用这些高能处理可能会损坏周围精细结构，或诱导残留物发生不必要的二次交联，反而降低其溶解性 。在 BSI CMOS 图像传感器中，此类过度曝光还会在硅衬底中产生界面陷阱态，从而直接增加暗电流的产生 （工程实践）。
[中] 侧壁侵蚀与轮廓变形：过于剧烈的灰化或在剥离工艺中使用活性过高的自由基可能会意外侵蚀暴露的硅侧壁或剩余的氧化物硬掩模 [P2, P4]。如果保护性卤化钝化层在不受控的化学环境中被过快去除，下层结构尺寸可能会发生横向刻蚀，导致关键尺寸 (CD) 偏差，并削弱相邻有源区之间的电气隔离 。
[低] 不溶性物质的再沉积：在湿法剥离过程中，如果深槽密闭空间内的局部化学浓度梯度或 pH 值发生不利变化，溶解的复杂有机卤化物或金属痕量残留物可能会从溶剂中析出 。这些再沉积的团簇会附着在槽壁上，并在随后的 SiN 填充步骤中成为局部应力集中点或缺陷的形核位点 。
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