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这一步只做一次CN0图形定义。形成的光刻胶开口会继续用于后面的PMD 3、PMD 2和PMD 1连续刻蚀，因此三段刻蚀不是三次光刻。

为什么保留三步

从集成概览看，它们可以合称一次“CN0接触孔刻蚀”；但一次光刻只定义平面图形，孔深仍按PMD 3→2→1逐段推进。保留三个刻蚀检查点可以明确当前孔底位于哪一段，并防止把PMD 1完成误写成已经接触到硅。