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METAL 2 TRENCH 光刻步骤是一项关键的后段工艺（BEOL）光刻制程，用于定义第二层金属的横向布线结构 [A1]。[T1] 在此步骤之前，V1 通孔已刻蚀于层间介电层（ILD）中，从而建立了通孔优先（via-first）的双大马士革（dual-damascene）集成方案 [P2]。