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ILD 2-2 氧化物刻蚀是后段工艺（BEOL）中的关键步骤，旨在层间介质层内为金属 3（MET3）互连图案化沟槽 [P3]。在完成 MET3 光刻后，该步骤通过物理去除暴露的氧化物或 low-k 材料，形成随后需填充 Ta 基衬层和铜晶种层的空腔 [P4]。