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28nm 工艺流程
Planar MOSFET
成熟制程节点,完整覆盖从 STI 到 Final Passivation 的全部工艺流程。适合系统学习半导体制造基础概念与 HKMG 集成工艺。
28nm Planar Flow
266 步骤
步骤索引
有源区 (AA) ·
AA Pad Oxidation
有源区 (AA) ·
AA Pad Nitride Deposition
有源区 (AA) ·
AA Amorphous Carbon Deposition
有源区 (AA) ·
AA N-free DARC Deposition
有源区 (AA) ·
AA Cap Oxide Deposition
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