工艺流程可视化

4 个工艺节点 · 40nm→7nm · 2.5D 截面图
- 逐步导航完整工艺流程
- 每一步配 2.5D 工艺截面图
- 原理解析 + 引用溯源
真实 40nm 工艺起点
Wafer In
40nm · 步骤 1 · 晶圆准备
完整的 40nm→7nm 工艺流程 —— 每一步都配 2.5D 截面图,还能沿真实顺序问 AI;证据覆盖时可核对论文、专利与教科书来源。
工艺流程可视化

4 个工艺节点 · 40nm→7nm · 2.5D 截面图
真实 40nm 工艺起点
Wafer In
40nm · 步骤 1 · 晶圆准备
Ångström 导览
40nm 六章结构导览
先看整条路线
沟槽隔离 → pinned photodiode → 前侧电路与晶圆键合 → 背面减薄 → CFA 分色 → 微透镜聚光。这里的“结构”既包括看得见的薄膜与界面,也包括 P-pinning 这类几何变化不明显、却决定表面电势的掺杂区。
这条路线帮你看懂
40nm BSI 如何从像素隔离与感光结,经前侧电路和晶圆键合、背面减薄,走到 CFA 分色与微透镜聚光?
结构里程碑
全部 6 章
流程可视化、来源追溯与机制分析,围绕每个工艺步骤协同呈现
1,700+ 步完整流程(40nm CIS / 28nm / 14nm / 7nm)逐步导航,每个节点都用 2D 工艺截面图呈现材料堆叠的形成过程
问答检索精选的论文、专利与教科书,并用 [T1][P2][A3] 标注引用,可展开书目信息与可用摘要核对
结合当前步骤的工艺类型、功能角色与前后流程上下文,解释物理化学机制和集成逻辑
两条并行的产品线,自由组合:工艺流程节点(一次性·终身)+ AI 深度问答(按需订阅,含免费档)
全节点永久访问 + Pro AI 一年(每周期 45× Free AI 用量额度)
一次性购买,不自动续费;一年后可按届时年付价格另行订阅 Pro AI
一次性购买,永久访问节点内容;AI Pro 需单独订阅
购买任一技术节点,即享 Owner:每周期 3× Free AI 用量额度 · 每步含原理解析与风险分析 · 论文/专利引用溯源 · 每步配套 2.5D 工艺截面图,逐步还原物理结构演化 · 一次购买,永久访问
具体可用支付方式以结账页为准
正在获取所选地区的价格…
增加 AI 使用额度;付费节点内容另行购买
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按月续订,随时调整
倍率以 Free 每周期基础用量额度为 1×,奖励用量另计。单次消耗随模型、对话长度和检索变化,不代表固定问答次数。
Pro 提升 AI 问答能力,不解锁需单独购买的付费工艺节点
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关于 SemiFlows 平台的常见问题解答
SemiFlows 是一个 AI 驱动的半导体工艺知识平台,提供完整的逐步工艺流程,覆盖 40nm 至 7nm 技术节点,包括逻辑芯片和 CMOS 图像传感器。平台整合了海量学术论文、专利和权威教科书,为每个工艺步骤提供深度原理解析与引用溯源。40nm BSI CIS 流程完全免费开放。
SemiFlows 目前覆盖四个工艺流程:40nm BSI CMOS Image Sensor(417 步,免费)、28nm Planar(266 步)、14nm FinFET(362 步)和 7nm FinFET(714 步)。这些流程共计超过 1,700 个详细工艺步骤,涵盖逻辑芯片和图像传感器两大领域的完整工艺集成。
SemiFlows 专为半导体工艺学习与研究构建。平台将结构化工艺流程、逐步截面图、物理化学机制解释和可追溯的论文与专利引用放在同一学习路径中,并结合当前步骤与前后流程上下文回答问题。
SemiFlows 提供每个工艺步骤背后的物理和化学原理、机制解释(工艺为何有效)、集成逻辑(步骤为何如此排序)以及风险分析。所有内容聚焦于基本原理 —— 不涉及具体的制造配方、设备参数或供应商细节。
是的。SemiFlows 支持英文和中文。用户可以随时通过语言切换按钮切换语言。AI 聊天助手也会以用户选择的语言进行回答。