14nm FinFET 14nm 工艺步骤 | SemiFlows
14nm FinFET
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SiO2 CMP to SiN Stop
43
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锁定步骤
Fin Recess Etch
43
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362
锁定步骤
流程概述
晶圆准备
1
Fin 图案化
16
Fin 切割
11
浅槽隔离 (STI)
24
34
STI Liner Deposition
35
STI FCVD Oxide Fill
37
SiO2 CMP to SiN Stop
+21 步骤
STI 凹槽刻蚀
12
Fin 凹陷
3
栅极
25
离子注入
4
侧墙
2
嵌入式 SiGe
13
嵌入式 Si 外延
17
CESL + PMD
13
替代金属栅 (RMG)
17
PMD 第二层
6
源漏接触
30
金属电阻接触
9
接触沟槽
31
栅极接触
28
金属 1 层
50
金属 2 层
50
选择解锁方案
选择解锁方案
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